Strukturierung
Kontakt- / Proximitybelichtung
– Scheibenbelackung



- Ätzbänke für Oxid, Polysilicium und Siliciumnitrid:

Ätzbecken zur nasschemischen Reinigung und Strukturierung von Halbleiterscheiben, Schleudermaschinen zum Trocknen der Halbleiterscheiben nach der Prozessierung
- Scheibenreinigung:

Anlage zur vollautomatischen Eingangsreinigung von Halbleitersubstraten
- RIE-ICP-Downstream-Reaktoren für Metall, Bulk-Si und Schichtätztechnik (Oxid, Nitrid, Poly-Si):

Anlage (Rückseite) zum trockenchemischen Ätzen von Dünnschichten mittels reaktivem Ionenplasma
- Lackverascher:

Horizontalreaktor zur Entfernung von Fotolack im Sauerstoffplasma
