Dünnschichttechnik

• Feucht- / Trockenoxidation im Horizontalofen:
  

  Horizontalöfen zur Herstellung dünner dielektrischer Schichten (Siliciumdioxid) durch feuchte und trockene thermische Oxidation von Silicium

• Schnelle thermische Oxidation im Einzelscheibenreaktor:
  

  Lampenbeheizter Einzelscheibenreaktor zur schnellen thermischen Ausheilung von Halbleiterscheiben und zur Herstellung dünner dielektrischer Schichten mittels schneller thermischer Oxidation

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LPCVD – MOCVD

• Chemische Dampfphasenabscheidung bei Niederdruck (LPCVD):
  

  Vertikalofen zur chemischen Dampfphasenabscheidung von Siliciumnitrid und Siliciumdioxid bei Niederdruck

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• Kathodenzerstäubung von Metallen, Isolatoren und amorphem Silicium:
  

  Anlage zur Abscheidung dünner leitfähiger und dielektrischer Schichten mittels Kathodenzerstäubung

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• Elektronenstrahlverdampfen von Metallen:
  

  Anlage zur Abscheidung dünner leitfähiger Metallschichten mittels Elektronenstrahlverdampfung

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• Metallische und halbleitende Nanopartikeln:
• SOG und Polyimide: