Dünnschichttechnik

  • Feucht- / Trockenoxidation im Horizontalofen:

    Horizontalöfen zur Herstellung dünner dielektrischer Schichten (Siliciumdioxid) durch feuchte und trockene thermische Oxidation von Silicium

  • Schnelle thermische Oxidation im Einzelscheibenreaktor:

    Lampenbeheizter Einzelscheibenreaktor zur schnellen thermischen Ausheilung von Halbleiterscheiben und zur Herstellung dünner dielektrischer Schichten mittels schneller thermischer Oxidation

LPCVD – MOCVD

  • Chemische Dampfphasenabscheidung bei Niederdruck (LPCVD):

    Vertikalofen zur chemischen Dampfphasenabscheidung von Siliciumnitrid und Siliciumdioxid bei Niederdruck

  • Kathodenzerstäubung von Metallen, Isolatoren und amorphem Silicium:

    Anlage zur Abscheidung dünner leitfähiger und dielektrischer Schichten mittels Kathodenzerstäubung

  • Elektronenstrahlverdampfen von Metallen:

    Anlage zur Abscheidung dünner leitfähiger Metallschichten mittels Elektronenstrahlverdampfung

     

  • Metallische und halbleitende Nanopartikeln:
  • SOG und Polyimide: