• Navigation überspringen
  • Zur Navigation
  • Zum Seitenende
Organisationsmenü öffnen Organisationsmenü schließen
Logo Lehrstuhl Elektronische Bauelemente
  • FAUZur zentralen FAU Website
  1. Friedrich-Alexander-Universität
  2. Technische Fakultät
  3. Department Elektrotechnik-Elektronik-Informationstechnik
Suche öffnen
    • Department EEI
    • UnivIS
    • StudOn
    1. Friedrich-Alexander-Universität
    2. Technische Fakultät
    3. Department Elektrotechnik-Elektronik-Informationstechnik

    Logo Lehrstuhl Elektronische Bauelemente

    Menu Menu schließen
    • Lehrstuhl
      • Team
      • Historie
      • Ausstattung
      • Dissertationen
      Portal Lehrstuhl
    • Forschung
      • Halbleiterbauelemente (AG Schulze)
      • Nitrid-Halbleiter (AG Schimmel)
      • Publikationen
      Portal Forschung
    • Lehre
      • Vorlesungen
      • Praktika
      • Seminare
      • Studentische Arbeiten
      Portal Lehre
    • Reinraumlabor
      • Bedeutung
      • Ausstattung
      • Daten & Fakten
      Portal Reinraumlabor
    • µe-bauhaus erlangen-nürnberg
      • Auf einen Blick
      • Hintergrund
      • Manifest des µe-bauhaus erlangen-nürnberg
      Portal µe-bauhaus erlangen-nürnberg
    1. Startseite
    2. Reinraumlabor
    3. Ausstattung
    4. Dünnschichttechnik

    Dünnschichttechnik

    Bereichsnavigation: Reinraumlabor
    • Bedeutung
    • Ausstattung
      • Dünnschichttechnik
      • Strukturierung
      • Dotierung
      • Prozessmesstechnik
    • Daten & Fakten

    Dünnschichttechnik

    • Feucht- / Trockenoxidation im Horizontalofen:

      Horizontalöfen zur Herstellung dünner dielektrischer Schichten (Siliciumdioxid) durch feuchte und trockene thermische Oxidation von Silicium


    • Schnelle thermische Oxidation im Einzelscheibenreaktor:
      Lampenbeheizter Einzelscheibenreaktor zur schnellen thermischen Ausheilung von Halbleiterscheiben und zur Herstellung dünner dielektrischer Schichten mittels schneller thermischer Oxidation

    LPCVD – MOCVD

    • Chemische Dampfphasenabscheidung bei Niederdruck (LPCVD):
      Vertikalofen zur chemischen Dampfphasenabscheidung von Siliciumnitrid und Siliciumdioxid bei Niederdruck

    • Kathodenzerstäubung von Metallen, Isolatoren und amorphem Silicium:
      Anlage zur Abscheidung dünner leitfähiger und dielektrischer Schichten mittels Kathodenzerstäubung

    • Elektronenstrahlverdampfen von Metallen:
      Anlage zur Abscheidung dünner leitfähiger Metallschichten mittels Elektronenstrahlverdampfung

       

    • Metallische und halbleitende Nanopartikeln:
    • SOG und Polyimide:

     

    Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
    FAU Erlangen-Nürnberg

    Cauerstr. 6
    91058 Erlangen
    • Impressum
    • Datenschutz
    • Barrierefreiheit
    • Facebook
    • RSS Feed
    • Twitter
    • Xing
    Nach oben