Prozessmesstechnik
Ellipsometrie – Interferometer – Stufenhöhenmessung – Rasterelektronenmikroskopie

Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Änderung des Polarisationszustands elektromagnetischer Wellen

Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Interferenzeigenschaften reflektierter Lichtstrahlen

Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante
Lichtmikroskopie – Rasterelektronenmikroskopie – Stufenhöhenmessung

Messgerät zur optischen Messung der Linienbreite

Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung

Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante
- Vierspitzenmessgerät:

Messgerät zur Ermittlung des Schichtwiderstands in leitfähigen und halbleitenden Schichten mittels Vierspitzenmessung