Prozessmesstechnik

Schichtdickenmessung

Ellipsometrie – Interferometer – Stufenhöhenmessung – Rasterelektronenmikroskopie

  • Ellipsometrie:
Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Änderung des Polarisationszustands elektromagnetischer Wellen
  • Interferometer:
Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Interferenzeigenschaften reflektierter Lichtstrahlen
  • Stufenhöhenmessung:
Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante
  • Rasterelektronenmikroskopie:
    Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung

     

Linienbreitenmessung

Lichtmikroskopie – Rasterelektronenmikroskopie – Stufenhöhenmessung

  • Lichtmikroskopie:
Messgerät zur optischen Messung der Linienbreite
    • Rasterelektronenmikroskopie:
Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung

 

  • Stufenhöhenmessung:
Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante

 

 

Schichtwiderstandsmessung

  • Vierspitzenmessgerät:
Messgerät zur Ermittlung des Schichtwiderstands in leitfähigen und halbleitenden Schichten mittels Vierspitzenmessung