Prozessmesstechnik

Ellipsometrie – Interferometer – Stufenhöhenmessung – Rasterelektronenmikroskopie

  • Ellipsometrie:

Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Änderung des Polarisationszustands elektromagnetischer Wellen

  • Interferometer:

Optisches Messgerät zur Bestimmung der Schichtdicke transparenter dielektrischer und halbleitender Dünnschichten über die Interferenzeigenschaften reflektierter Lichtstrahlen

  • Stufenhöhenmessung:

Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante

  • Rasterelektronenmikroskopie:

    Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung

     

Lichtmikroskopie – Rasterelektronenmikroskopie – Stufenhöhenmessung

  • Lichtmikroskopie:

Messgerät zur optischen Messung der Linienbreite

    • Rasterelektronenmikroskopie:

Rasterelektronenmikroskop mit Feldemitter zur Untersuchung von Schichten in Halbleiterbauelementen bei bis zu 70000-facher Vergrößerung

 

  • Stufenhöhenmessung:

Mechanisches Messgerät zur Bestimmung von Schichtdicken und Stufenhöhen an Kante

 

 

  • Vierspitzenmessgerät:

Messgerät zur Ermittlung des Schichtwiderstands in leitfähigen und halbleitenden Schichten mittels Vierspitzenmessung