Abgeschlossen 2025BA: Untersuchung und Optimierung der Prozessparameter von mr-NIL213FC Resist für UV-NIL zur Herstellung von nanoskaligen Strukturen in Si und SiC
Niklas Kardatzki – Nanostrukturen wie Nanosäulen/-löcher, Nanolinienstrukturen oder Nanopartikel haben sich als leistungsfähige Komponenten in den Bereichen Photonik, MEMS/MOEMS/NEMS, biokompatible Sensoren und der Quantensensorik erwiesen. Daher stellt die Strukturierung von Wirtsmaterialien wie Silizium (Si) und Siliziumcarbid (SiC) einen entscheidenden Schritt dar. Für die Übertragung und Realisierung benötigter Nanostrukturen dienen lithographische Techniken wie die Elektronenstrahl-Lithographie (EBL, […]Niklas Kardatzki – Nanostrukturen wie Nanosäulen/-löcher, Nanolinienstrukturen oder Nanopartikel haben sich als leistungsfähige Komponenten in den Bereichen Photonik, MEMS/MOEMS/NEMS, biokompatible Sensoren und der Quantensensorik erwiesen. Daher stellt die Strukturierung von Wirtsmaterialien wie Silizium (Si) und Siliziumcarbid (SiC) einen entscheidenden Schritt dar. Für die Übertragung und Realisierung benötigter Nanostrukturen dienen lithographische Techniken wie die Elektronenstrahl-Lithographie (EBL, […]
